AITOLY流量计应用于PVD与PECVD镀膜工艺

2026年08月14日 13:16:53 人气: 115 来源: 苏州爱拓利电子设备有限公司

MFC350主要应用于物理气相沉积（PVD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）这两类核心的真空镀膜工艺中。它的工作可以这样理解：

精确配比反应气体：在镀膜时，需要将氧气、氩气、氮气，或是硅烷（SiH?）、氨气（NH?）等工艺气体，按精确比例输送到真空腔室。MFC350接收PLC或上位机的指令，通过闭环控制快速、稳定地将气体流量锁定在设定值。

保障膜层质量：气体流量的微小波动，都可能直接改变薄膜的化学成分、均匀性和微观结构。例如，在制备Low-E玻璃或导电玻璃的功能层时，反应气体的精确控制是决定膜层光学与电学性能的关键。

为何能契合镀膜工艺的严苛要求？

MFC350的一些关键技术参数，使其能很好地胜任上述任务：

高精度与高稳定性：其控制精度可达±0.5% F.S.，重复精度为±0.05% F.S.。基于毛细管热式原理，它直接测量质量流量，不易受环境温度和压力波动的影响，保证了长期运行的稳定性和膜层一致性。

快速响应能力：控制器响应时间小于1秒，传感器响应更是快至5-100毫秒。在多步工艺中需要快速切换气体种类或调整流量时，它能迅速建立稳定流量，减少过渡时间和气体浪费。

气体兼容性与材质洁净度：它内置了90-130种气体的校准数据，可轻松切换不同气体，以适应因膜层功能不同而使用多种气体的需求。气路部分采用SUS316L不锈钢材质，有助于保持工艺气体的高纯净度。

低功耗设计：其峰值功耗仅为2.112W。在多路气体控制的复杂镀膜设备中，这有助于降低设备整体发热，提升系统的长期热稳定性。

特性对镀膜工艺的价值

高精度控制精度±0.5% F.S.，确保膜层化学成分与结构的一致性。

快速响应响应<1秒，在多步工艺中快速切换气体，减少过渡时间和损耗。

多气体兼容内置多种气体数据，灵活适应不同镀膜工艺对特殊气体的需求。

洁净材质采用SUS316L不锈钢，避免污染工艺气体，保障膜层纯净度。

低功耗峰值功耗仅2.112W，降低设备发热，提升多路系统稳定性。

总结

总的来说，MFC350在玻璃镀膜应用中并非一个被动的测量仪表，而是一个主动的、高精度的执行器。它将“精控”能力嵌入到PVD、PECVD等核心环节中，为生产高质量的功能玻璃提供了关键的工艺保障。

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